リックス株式会社、次世代半導体向けフラックス洗浄装置の特許出願について

次世代半導体向けフラックス洗浄装置の誕生

福岡を拠点とするリックス株式会社が、次世代半導体の製造に必要なフラックス洗浄装置を新たに開発し、特許出願を行いました。この技術は、2.5次元および3次元実装技術に対応するもので、特に狭い隙間にフラックス洗浄液を浸透させることができる減圧機構が特徴となっています。

この新しいフラックス洗浄装置の登場により、近年の半導体産業の進化を支える新たな一手となります。特に、AI向けの高性能半導体の製造には、この洗浄技術が欠かせません。洗浄対象とする部品は、チップレット技術などで用いられるインターポーザーと呼ばれる中間基板です。これまでの洗浄技術では洗浄できなかった数十ミクロンの狭い隙間に残ったフラックスを、確実に除去できる期待が高まっています。

フラックス洗浄装置の背景と特長

リックス株式会社は、20年以上にわたりフラックス洗浄設備の製造・販売を行っており、幅広い専門知識があります。この技術開発は、特に半導体製造工程において重要であり、その過程で発生するフラックスの残渣を確実に洗浄できる技術を求められていました。

新開発の洗浄装置は、特に高精度な製品の製造に欠かせない部分に焦点を合わせており、その結果、次世代半導体の生産性向上にも直結することが期待されています。すでに複数の大手半導体関連企業から受注を受けており、そのニーズに応える形で納入が行われています。

今後の展望

リックス株式会社は、半導体後工程の洗浄分野で九州地域の中心的な役割を担うと共に、国際的な半導体業界に対しても貢献すべく技術の発展に注力していく方針です。今回の新しいフラックス洗浄装置を通じて、さらなるイノベーションが期待されており、これからも業界ニーズに対応した製品開発を続けていく考えです。

企業紹介

リックス株式会社は、1907年に創業し、福岡市博多区に本社を構えるメーカー商社です。鉄鋼、自動車、電子・半導体、工作機械など多岐にわたる業界向けに、産業機械や部品・サービスを提供しています。今後も地域の技術発展に貢献し、顧客の期待に応え続ける企業であり続けることでしょう。

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